Оптимизированный дизайн водяного радиатора CPU серверов дата-центров

Zhu Kai ,  

Liu Zekuan ,  

He Wei ,  

Chai Xiang ,  

摘要

Как повысить эффективность охлаждения водяных радиаторов для поддержания нормальной рабочей температуры компьютерных чипов стало центральным вопросом исследований по охлаждению серверов дата-центров. В данной работе, с комплексным коэффициентом F и температурой чипа в качестве целевых параметров, методом ортогональных экспериментов оптимизировали толщину основания радиатора, расположение каналов (на основании), количество каналов и ширину каналов, чтобы получить оптимальную комбинацию для радиаторов с индексами F и T под разные требования. Результаты показали, что при объемном расходе охлаждающей воды 0,4 л/мин и температуре на входе 20 ℃ предельная плотность теплового потока радиаторов с индексами T и F составляет 78 и 65 Вт/см2 соответственно. Также проанализировали охлаждающую способность по распределению температуры основания радиатора и общему тепловому сопротивлению. Градиент температуры основания и общее тепловое сопротивление радиатора с индексом T ниже, чем у радиатора с индексом F, что свидетельствует о превосходстве радиатора T; однако при разных объемных расходах перепад давления у радиатора с индексом F меньше, чем у радиатора с индексом T. При плотности теплового потока чипа ниже 65 Вт/см2 эффективность течения жидкости в каналах радиатора с индексом F выше, и он удовлетворяет требованиям охлаждения серверов дата-центров, а для более высоких плотностей теплового потока следует использовать радиатор с индексом T.

关键词

Компьютерный сервер;CPU чип;Охлаждение чипа;Водяной радиатор;Ортогональный дизайн

阅读全文

以上内容由讯飞翻译自动生成,翻译内容仅供参考。对于因使用本网站翻译内容产生的相关后果,本网站不承担任何商业和法律责任。

The above content is generated by Large Model Translation. The translated content is for reference only. We do not assume any commercial or legal responsibilty for any consequences arising from the use of our website