摘要
미세 방울 분사 유리화 보존 시스템은 미세한 방울 크기를 생성하여 낮은 농도의 저온 보호제에서도 유리화를 실현할 수 있다. 본 연구에서는 미세 방울 분사 유리화 보존 시스템을 이용하여 HepG2 세포를 유리화 보존하였으며, 보호제 적재 과정, 분사 과정, 수취 과정 및 유리화/복온 과정이 세포에 미치는 손상 정도를 연구하였다. 또한 보호제 내 Me2SO 농도 감소와 적절한 트레할로스 첨가를 통해 보호제 조성을 최적화하였다. 결과는 미세 방울 분사 유리화 보존의 모든 과정에서 세포에 손상이 발생하였으며, 보호제 적재 과정, 분사 과정, 유리화 및 복온 과정에서 손상이 크고, 박편 수취 과정에서는 손상이 적음을 나타냈다. 또한 보호제 내 Me2SO 농도가 낮아질수록 저온 보존 후 세포 활성은 현저히 감소하였으며, 보호제 농도가 같을 때 유리화 보존 효과는 서서히 냉동보다 우수하였다; 적절한 트레할로스는 저온 보존 효과를 강화하였으나 과량은 반대 효과를 보였다; 5% Me2SO + 0.3mol/L 트레할로스를 저온 보호제로 사용한 경우 세포 생존율은 (92.42±0.95)%, 24시간 부착률은 (95.64±1.03)%로 미세 방울 분사 유리화 효과가 가장 우수하였다.
关键词
미세 방울 분사;유리화;과정 손상;보호제 최적화
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