고체 광 냉각 기술은 안티 스톡스 형광을 이용하여 목표 하중을 냉각하는 새로운 냉각 기술로, 진동 및 전자기 간섭이 없다는 장점이 있다. 최근 몇 년간 광 냉각 재료 시스템의 지속적인 확장과 재료 성능 개선, 펌프 흡수 증강 및 광열 관리와 같은 핵심 기술의 발전으로 고체 광 냉각의 최저 도달 온도는 초기 실온 부근에서 100 K 이하 영역으로 낮아져 저온 광학 냉각기 범주에 성공적으로 진입하였다. 본 논문은 저온 광학 냉각기의 연구 동향을 중심으로 광 냉각 물리 메커니즘, 광 냉각 재료 시스템, 펌프 흡수 증강, 광열 관리, 시스템 통합 측면에서 종합적으로 고찰하였다. 관련 연구 동향의 종합을 통해, 저온에서의 펌프 흡수 감쇠, 냉각 결정의 제한된 냉각 출력 및 시스템 기생 열 부하가 추가 냉각 및 하중 측 유효 냉각 출력 향상의 주요 제약 요소임을 알 수 있었다. 앞으로는 재료 냉각 성능 향상, 저온 펌프 흡수 강화 및 시스템 수준 열 관리 최적화의 협력적 추진이 저온 광학 냉각기의 종합 성능 및 응용 능력 향상을 위해 필요하다.

저온 광학 냉각기;광 냉각 재료 시스템;펌프 흡수 증강;광열 관리;시스템 통합