Dieser Artikel untersucht einen Nanofluid-Tropfen aus Aluminiumoxid mit einer Nanopartikelgröße von 50 nm und einem Massenanteil von 0,1 %. Es wurde der Verdampfungsprozess des Nanofluids auf einem Glasobjektträger bei vier verschiedenen Heiztemperaturen der Grundplatte (30, 47, 64, 81 ℃) untersucht. Die Veränderungen des Kontaktwinkels, des Kontaktlinienradius während der Verdampfung sowie das Temperaturverteilungsprofil wurden ermittelt. Die Verdampfungsergebnisse wurden mikroskopisch aufgenommen, um die nach dem Verdampfen zurückgebliebenen Ablagerungsmuster auf der Grundplatte zu beobachten. Die Ergebnisse zeigen, dass die Unterschiede in der Verdampfungstemperatur keinen signifikanten Einfluss auf das Verdampfungsverhalten haben; mit steigender Grundplattentemperatur verkürzt sich die Verdampfungszeit erheblich (die längste und kürzeste Verdampfungszeit unterscheiden sich um das Zehnfache); die Anfangs-Marangoni-Zahl nimmt mit steigender Grundplattentemperatur zu, aber mit fortschreitender Verdampfung wird die Marangoni-Strömung unterdrückt.

Nanofluid;Tropfenverdampfung;Verdampfungsverhalten;Temperaturverteilung