تبخر قطرات السائل النانوي ذات الجزيئات الوظيفية على السطح الصلب هو عملية رئيسية في عدة مجالات مثل تبريد التكييف وتبريد الإلكترونيات. تمت دراسة تبخر سائل النانوي على سطح صلب وعملية ترسيب الجسيمات، وتم التقاط أنماط الترسيب وتوصيفها بشكل مجهري. أظهرت النتائج أن قطرات السائل تتبخر دائمًا بنمط شعاع التلامس الثابت، وأن درجة حرارة اللوحة الأساسية وتغير حجم القطرة تؤثر بشكل طفيف على نمط وشكل تبخر القطرة، وأن زاوية الاتصال تتغير تقريبًا بشكل خطي مع مرور الوقت. يمكن لمواد التشحيم التحكم بشكل كبير في سلوك حركة تجانب السائل، حيث يمكن لإضافة نسبة كتلية تصل إلى 0.25٪ من مواد التشحيم انتثر (SDS) للصوديوم دهن الكبريتيك الكتاني عشري (SDS) أن تجعل نصف قطر انتشار القطرة يزيد من 0.71 مم إلى 1.12 مم، وأن الزاوية الاتصالية الأولية تنخفض من 83° إلى 54°، وأن المساحة المنتشرة تزيد بنسبة 89٪. بالإضافة إلى ذلك، يمكن لـ SDS التحكم وزيادة عرض حلقات القهوة، حيث عندما تصل نسبة كتلة SDS إلى 1.00٪، تصل عرض حلقات القهوة إلى 230 ميكرومتر، وتكون الجسيمات قد انتشرت بشكل متساوٍ في منطقة التبخر بأكملها، وتكبح بشكل فعال تأثير حلقات القهوة. درجة الحرارة الأساسية وحجم القطرة يؤثران بشكل ملحوظ في أنماط ترسيب قطرة السائل بعد التبخر، كلما ارتفعت درجة حرارة اللوحة الأساسية، وزاد حجم القطرة، زادت حلقات القهوة الظاهرة بشكل أوضح بعد التبخر. من خلال إدخال رقم Ma، تم توصيف تأثيرات تدفق السائل الداخلي وآلية تكوين حلقات القهوة الموجهة تأثير آثار تغييرات درجة الحرارة والحجم والنسبة الكتلية.